WICOATEC-CVD Dünnschichttechnik zur Beschichtung von Metallbauteilen

Abstract

Auf Basis eines weltweit neuartigen Dünnschichtprozesses in CVD-Technik können Metallbauteile mit komplexen Oberflächen mit einem Dünnschichtprozess noch wirksamer als bisher gegen Korrosion, Scaling und Fouling geschützt werden. Der vollständige Verzicht auf Vakuumtechnologie, die deutliche Absenkung der Prozesstemperatur und die konsequente Verringerung des benötigten Chemikalieneinsatzes über das patentierte Verweilzeitkonzept (Mehrfach-Pass), führen zu einer Verringerung des Energieverbrauchs und Verbesserung der Umweltfreundlichkeit im Vergleich zur etablierten Technik in Form des Hochtemperatur CVD-Verfahrens. Es konnten folgende umwelttechnische Verbesserungen nachgewiesen werden: Silan: - 95%, Essigsäure: - 95%, Aluminium: - 99%, elektrische Energie: - 90% und Erdgas: - 80%. Als Bezugsgröße ist der jährliche Verbrauch berechnet, der ansonsten mit einem konventionellen Hochtemperatur CVD-Prozess zur Beschichtung von 3.600 t Aluminiumteile benötigt würde. Diese Verfahrensverbesserungen wurden über einen patentierten Verweilzeitkonzept mit Einsatz eines Mehrfach-Pass Prinzips erreicht. Insgesamt kann für die Ausbringung mit dem neuartigen Dünnschichtprozess auf Basis der CVD-Technik 2.000 t CO2-Äquivalente (- 87%) im Vergleich zur konventionellen Technik eingespart werden. Eine großtechnische Umsetzung ermöglichte eine Multiplikatoren Wirkung der gesamten Prozesskette für zukünftige Installationen. Quelle: Forschungsbericht

Based on a worldwide novel thin film process in CVD technology, metal components with complex surfaces can be protected even more effectively than before against corrosion, scaling and fouling with this thin film process. By completely waiving vacuum technology, a significant lowering of the process temperature and the consistent reduction of the required use of chemicals via the patented dwell time concept (multiple-pass) lead to a decrease of energy consumption and improvement of the environmental footprint, compared to the established technology in the form of the high-temperature CVD process. The following environmental improvements have been demonstrated: Silane: - 95%, acetic acid: - 95%, aluminum: - 99%, electrical energy: - 90% and natural gas: - 80%. As a reference value, the annual required consumption of a conventional high temperature CVD process has been calculated to coat 3,600 t of aluminum parts. These process improvements were achieved by the patented dwell time concept using a multiple-pass principle. In total, 2,000 t CO2 equivalents (- 87%) can be saved on the output with the novel thin film process based on low temperature CVD technology, compared to conventional technology. A large-scale implementation enabled a multiplier effect of the entire process chain for future installations. Quelle: Forschungsbericht